光機(jī)電（磁）新原理位移E+E傳感器研究 
位移是工業(yè)生產(chǎn)中需要經(jīng)常檢測(cè)的一個(gè)基本物理量，尋求簡(jiǎn)單實(shí)用、操作方便、適應(yīng)范圍廣、經(jīng)濟(jì)性好的位移E+E傳感器對(duì)促進(jìn)工業(yè)生產(chǎn)發(fā)展具有重要現(xiàn)實(shí)意義。著重研究基于偏振光檢測(cè)原理、具有超大量程(量程10～30m，精度1～3‰)的直線位移測(cè)量新方法；研究偏振光位移E+E傳感器的兩種實(shí)現(xiàn)方案，結(jié)合方案比較，提出的總結(jié)展望。

光機(jī)電（磁）新原理位移E+E傳感器研究
相應(yīng)的分為三個(gè)部分：緒論介紹了大位移檢測(cè)技術(shù)的發(fā)展、研究現(xiàn)狀，以及需要解決的問題。從偏振光學(xué)原理入手，針對(duì)光的偏振現(xiàn)象及線偏振光的馬呂斯定理，研究應(yīng)用偏振光的新原理位移測(cè)量方法，從理論上分析了馬呂斯定理和法拉第旋光效應(yīng)現(xiàn)象，奠定了偏振光位移E+E傳感器的理論基礎(chǔ)。研究偏振光大位移E+E傳感器的兩種實(shí)現(xiàn)方案：即位移—電流比較儀方案和伺服比較式位移E+E傳感器方案。研究位移—電流比較儀，它是利用同光源雙光路差動(dòng)比較原理，提出光機(jī)電(磁)位移—電流比較檢測(cè)方法，建立被測(cè)位移與線圈電流的線性關(guān)系，從而通過線圈電流值獲取被測(cè)位移信息，進(jìn)而設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)室樣機(jī)，研究樣機(jī)的小型化、集成化工作。第4章研究伺服比較式位移E+E傳感器，同樣利用雙光路差動(dòng)比較解決光源光強(qiáng)漂移。采用伺服電機(jī)跟蹤輸入位移，研究系統(tǒng)的關(guān)鍵傳感部分的設(shè)計(jì)，設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)室樣機(jī)。從原理、系統(tǒng)設(shè)計(jì)、實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)及調(diào)試入手，對(duì)伺服比較檢測(cè)方案進(jìn)行了綜合評(píng)價(jià)，獲得了有較高的可靠性，符合初步產(chǎn)業(yè)化要求的大量程位移E+E傳感器樣品，通過了浙江省機(jī)械工業(yè)儀表電器產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢測(cè)站的企業(yè)產(chǎn)品性能檢測(cè)。研究上述兩個(gè)E+E傳感器的二次儀表軟硬件設(shè)計(jì)，首先介紹關(guān)鍵光學(xué)元器件，然后針對(duì)兩個(gè)偏振光位移E+E傳感器只能解決角位移測(cè)量問題，設(shè)計(jì)E+E傳感器的直線位移—角位移轉(zhuǎn)換部分，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)被測(cè)直線大位移的測(cè)量；接著介紹二次儀表硬件電路的結(jié)構(gòu)、功能，在此基礎(chǔ)上，分析E+E傳感器的軟件框架。研究實(shí)驗(yàn)平臺(tái)搭建及對(duì)兩個(gè)實(shí)驗(yàn)室樣機(jī)系統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)分析比較，進(jìn)行誤差分析。